第54回講演会 2002.2.27(水) セイコーインスツルメンツ幕張本社
54-1
ICP-MSにおけるスペクトル干渉発生の原理とその除去技術の進展 野々瀬 菜穂子 産業技術総合研究所
54-2
マトリックス除去による分光干渉の低減 川田 哲 セイコーインスツルメンツ
54-3
Collision Cells ICP-MS: Putting the Myths to Bed Fadi Abou-Shakra MICROMASS
54-4
ダイナミックリアクションセルを用いたICP-MSにおける干渉除去技術の原理および応用について 川端 克彦 パーキンエルマー
54-5
イオントラップ型質量分析計を用いた分光干渉の軽減 鍋島 貴之 日立ハイテクノロジーズ
54-6
オクタポールリアクションシステムを利用した分光干渉の軽減 −原理と基本性能を中心として− 山田 憲幸 横河アナリティカルシステムズ
54-7
The Second Generation Collision Cell Technology with Kinetic Energy Discrimination −The Principles, Preformance and Possibilities− Bill Spence Thermo Elemental

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