第66回講演会 2006.3.16(木) 中央大学理工学部校舎 5333号室
66-1
JIS高周波プラズマ質量分析通則改正の経緯 古田 直紀 中央大学理工学部
66-2
コリジョン・リアクションセル技術について 野々瀬 菜穂子 (独)産業技術総合研究所
66-3
リアクションセルおよび高分解能ICP-MSを用いた高感度測定 行嶋 史郎 (株)住化分析センター
66-4
サンプル導入系-JIS改訂に関連して- 岸 洋子 (株)イアス
66-5
微少量試料ネブライザーの半導体分析技術への適応 薦田 光徳 (株)シルトロニック・ジャパン
66-6
シングルコレクター磁場型二重収束質量分析の特徴 上本 道久 都立産業技術研究所
66-7
マルチコレクターICPMSによる同位体分析 平田 岳史 東京工業大学

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